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產(chǎn)品與服務(wù)
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產(chǎn)品分類:三氟化氮
名稱/化學(xué)式:三氟化氮/NF3包裝規(guī)格:44L、17L純度(%)及雜質(zhì)(ppm):99.99%
產(chǎn)品詳情
三氟化氮(NF3)主要用途
是用作氟化氫-氟化氣高能化學(xué)激光 器的氟源,在h2-O2與F2之間反應(yīng)能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出,所HF-OF激光器是化學(xué)激光 器中最有希望的激光 器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,對硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面無污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留殘留物,同時也是非常良好的清洗劑。
用作高能燃料。
目前三氟化氮工業(yè)化生產(chǎn)
有兩條路線,一是合成法:將氟化氫銨在鎳制反應(yīng)器中加熱,氟氣、氮?dú)夂桶蓖ㄟ^分布器進(jìn)入反應(yīng)器直接氟化反應(yīng)。二是電解法:在一定溫度下,電解熔融的氟化氫銨,電解過程中陽極產(chǎn)生三氟化氮,陰極產(chǎn)生氫氣。我國三氟化氮生產(chǎn)廠家的生產(chǎn)方法為上述兩種方法。
產(chǎn)品名稱:三氟化氮
產(chǎn)品類別:化工/氣體
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